純水設(shè)備RO膜化學(xué)清洗的方法介紹
來源：無錫純水設(shè)備??????2022/7/7 9:13:37??????點(diǎn)擊：
【無錫水處理設(shè)備http://www.ktwmrg.cn】隨著運(yùn)行時(shí)間的增加，反滲透膜表面的污垢將會導(dǎo)致膜元件產(chǎn)水量降低、脫鹽率下降、原水和濃水之間的壓差增大等。在顯著的性能衰減之前，采用低壓、高流量的沖洗方法來去除膜表面污垢層，對于消除輕度的有機(jī)物污染是非常有效的。當(dāng)膜污染比較嚴(yán)重時(shí)可采用化學(xué)清洗，通過化學(xué)藥劑與污染物相互作用，溶解、分離膜表面污染物，該方法通常在沖洗之后采用。
純水設(shè)備膜清洗的條件
1、進(jìn)水和濃水的壓差上升到初始壓差值的15%；
2、產(chǎn)水量降低了10%；
3、透鹽率增加了20%；
在清洗之前確定膜表面的污垢類型，可以根據(jù)SDI測試膜片上殘留物的顏色、粘稠度等對污垢進(jìn)行判別。例如，褐色的殘留物一般為鐵污垢；白色或米色殘留物可能是硅、砂質(zhì)粘土、鈣垢；晶狀體外形殘留物是無機(jī)膠體、鈣垢；生物污垢或有機(jī)污垢除了有氣味外，通常還呈現(xiàn)粘稠狀。
當(dāng)確定了純水設(shè)備膜表面的污染類型后，選擇相應(yīng)的清洗程序，根據(jù)膜污染的程度通常需要交替使用幾種化學(xué)清洗方法，比單獨(dú)使用一種清洗方法更加有效。
定期的清洗可以很大程度的恢復(fù)系統(tǒng)性能，對預(yù)防膜元件污染是非常必要的，在化學(xué)清洗之后，將污染物徹底地沖洗出RO系統(tǒng)。純水設(shè)備，實(shí)驗(yàn)室純水設(shè)備, 無錫純水設(shè)備,無錫水處理設(shè)備，無錫去離子水設(shè)備, 醫(yī)用GMP純化水設(shè)備。 半導(dǎo)體超純水設(shè)備。
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